римеры разработок.

5. Степпер для фотолитографии.

Создание объективов для степперов, являющихся основой большинства современных технологических линий изготовления элементов микроэлектроники, сложная технологическая задача. Степперы, обеспечивающие современные уровни плотности монтажа (60-90 нм) изготавливают в мире несколько фирм. Объективы в их составе работают на пределе возможности линзовых систем по пропусканию излучения из-за отсутствия подходящих материалов. Несколько лет назад, была разработана международная программа по созданию степперов на основе зеркальных систем. Минимальная длина волны, пропускаемая зеркальным объективом, определяется покрытием зеркал и, соответственно источник излучения может быть и более коротковолновым и более широкополосным, чем для линзовых объективов. Ключевой является оптическая и технологическая схема конечного изделия. Кто её реализует, тот и получит серьёзные конкурентные преимущества в такой отрасли как электроника.

В инициативном порядке нами был проведен в 2005-2007г.г. пробный расчёт зеркального объектива для степпера уровня 180-250 нм.

В соответствии со стандартными техническими требованиями, рассчитанный объектив обеспечил масштаб изображения 1:5 в диаметре рабочего поля 31.1 мм. Уже при минимальном количестве асферических зеркал, равном 4, рассчитанный объектив способен обеспечить геометрические аберрации не более 160 нм.

Использование источников излучения с длинами волн существенно более короткими, чем ожидаемый уровень плотности монтажа принципиально снимает проблему дифракционных аберраций. Участники, задействованные в упомянутой международной программе, близки к созданию источника с длиной волны 13.5 нм. В этом случае открывается перспектива непрерывного наращивания разрешения объектива, за счёт улучшения его оптической схемы и технологий контроля изготовления зеркал и их покрытий.

Проектирование и изготовление зеркального степпера в соответствии с мировыми тенденциями, для технологий плотности монтажа 240 нм и меньше, представляется более эффективным, чем трата сил и средств на создание линзовых объективов.